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相关产品
光学关键尺寸量测设备
面向薄膜、光栅、纳米线及周期性微纳结构的非接触式光学量测系统，通过采集不同波长、入射角与偏振条件下的反射散射信号，结合自研算法与数值拟合分析关键尺寸与光学特性。
光谱椭偏仪
面向高校、科研院所与企业的精密光学测量仪器，通过检测反射光偏振状态变化获取椭偏参数 Ψ 与 Δ，测量纳米薄膜厚度、材料光学常数与多层膜结构，支持多角度、微区与晶圆自动 Mapping 配置。
晶圆微孔量测设备
面向先进封装 3D 堆叠工艺与晶圆制造中高深宽比微孔阵列的量测设备，集成角分辨光学散射、白光干涉、反射光谱与共聚焦显微技术，为 TSV 关键尺寸、深度与结构形貌提供表征手段。
关于芯见微
非接触式光学量测
非成像光学测量方法，不依赖对微纳结构直接成像，可表征小于传统光学成像分辨能力的结构参数。
自主算法与建模
自研拟合算法与数值分析，内存占用小、实时计算量低，兼顾精度与产线节拍。
全工艺覆盖
产品支持先进 3D NAND 工艺、先进逻辑工艺及先进封装工艺的量测，规格匹配国际尖端水准。
院士团队与产学研背景
核心团队由中国科学院院士领衔，成员来自武汉大学、海南大学资深研究人员及半导体行业顶尖技术专家，拥有 20 余年行业经验。
半导体量测行业经验
授权发明专利
在研量测设备
杭州 · 武汉研发布局
新闻资讯
- 222026-10团队四项授权发明专利公开，覆盖缺陷检测、ANN 建模与纳米结构量测
团队在半导体量测方向已获授权发明专利四项，覆盖缺陷检测结构设计、基于 ANN 的光学特性建模数据库生成、堆叠纳米片结构测量模型构建与光电共封装器件制备。
- 182026-10POLARIS-F100 光谱椭偏仪与 TITAN-M100 晶圆微孔量测设备同步发布
光谱椭偏仪与晶圆微孔量测设备同步发布，公司量测产品线覆盖薄膜、关键尺寸与高深宽比微孔三大方向。
- 102026-10AROSS-S100 角分辨散射光学关键尺寸量测设备正式发布
基于角分辨散射的非接触式光学量测设备正式发布，面向薄膜、光栅、纳米线及周期性微纳结构，可表征小于传统光学成像分辨能力的结构参数。
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公司在武汉设立研发中心，与杭州总部形成「杭州 + 武汉」双地研发布局。
- 122026-08团队成果获 2020 年度国家科学技术进步奖一等奖
团队在先进封装领域获 2020 年度国家科学技术进步奖一等奖，这一积累直接支撑了公司先进封装量测产品线。