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光学关键尺寸量测设备
面向薄膜、光栅、纳米线及周期性微纳结构的非接触式光学量测系统,通过采集不同波长、入射角与偏振条件下的反射散射信号,结合自研算法与数值拟合分析关键尺寸与光学特性。
光学关键尺寸量测AROSS-S100

光谱椭偏仪
面向高校、科研院所与企业的精密光学测量仪器,通过检测反射光偏振状态变化获取椭偏参数 Ψ 与 Δ,测量纳米薄膜厚度、材料光学常数与多层膜结构,支持多角度、微区与晶圆自动 Mapping 配置。
光谱椭偏测量POLARIS-F100

晶圆微孔量测设备
面向先进封装 3D 堆叠工艺与晶圆制造中高深宽比微孔阵列的量测设备,集成角分辨光学散射、白光干涉、反射光谱与共聚焦显微技术,为 TSV 关键尺寸、深度与结构形貌提供表征手段。
晶圆微孔量测TITAN-M100
